[发明专利]利用模型基础对准来改善边缘放置量测准确度在审
| 申请号： | 201980037249.0 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN112236723A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 王祯祥;赵谦;郭蕴博;卢彦文;冯牧;张强 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于改善用于图案化过程的过程模型的方法，包括：获得a)来自图像捕获装置的测量轮廓(330)，和b)从所述过程模型的模拟所产生的模拟轮廓(510)。所述方法也包括通过确定所述测量轮廓与所述模拟轮廓之间的偏移使所述测量轮廓与所述模拟轮廓对准。所述过程模型被校准以减小所述模拟轮廓与所述测量轮廓之间的基于所确定的偏移而计算出的差。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 模型 基础 对准 改善 边缘 放置 准确度 | ||
【主权项】：
暂无信息
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