[发明专利]在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法在审
| 申请号： | 201980013338.1 | 申请日： | 2019-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN111771166A | 公开（公告）日： | 2020-10-13 |
| 发明（设计）人： | 理查德·J·布鲁尔斯;R·P·奥尔布赖特;P·C·科奇斯珀格;V·A·佩雷斯-福尔肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统，其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘，清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料，使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积，从而将该体积中的颗粒(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可以具有交替的极性，以增强颗粒到表面的吸引。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 中的 原位 颗粒 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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