[发明专利]在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法

权利要求书

1.一种设备，包括：

平台，所述平台适于支撑衬底，以及

电压供应源，所述电压供应源被电连接到所述平台并且适于在所述电压供应源切换极性的模式下操作。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述平台包括静电卡盘。

3.一种设备，包括：

平台；以及

布置在所述平台上的大致平面的衬底，所述衬底具有面向所述平台的第一表面和背离所述平台的第二表面，所述第一表面的至少第一部分缺少导电涂层，并且所述第二表面的至少第二部分缺少导电涂层，所述第一部分和所述第二部分相对于彼此布置，使得电场能够穿过所述衬底。

4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述平台包括静电卡盘。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述第一表面部分地覆盖有导电涂层。

6.根据权利要求3所述的设备，还包括电压源，所述电压源用于向所述静电卡盘施加电压并且产生电场，所述电场越过所述衬底延伸到邻近所述第二表面的空间中。

7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述电压源适于交替所述电压源的输出电压的极性。

8.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衬底由非导电材料制成。

9.根据权利要求3所述的设备，其中，所述第一表面至少部分地涂覆有非导电材料。

10.根据权利要求3所述的设备，其中，所述第二表面至少部分地涂覆有非导电材料。

11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述非导电材料包括Kapton。

12.根据权利要求3所述的设备，其中，所述第一表面或所述第二表面都不包括具有导电材料的涂层，并且所述设备还包括用于将所述衬底固定到所述静电卡盘的机械夹具。

13.一种设备，包括：

平台；

大致平面的，所述衬底具有第一表面和第二表面，所述衬底被布置在所述平台上，使得所述第一表面面向所述平台并且所述第二表面背离所述平台，所述第一表面的至少第一部分缺少导电涂层，并且所述第二表面的至少第二部分缺少导电涂层，所述第一部分和所述第二部分相对于彼此布置，使得电场能够穿过所述衬底；以及

电压供应源，所述电压供应源被电连接到所述平台并且适于在所述电压供应源切换极性的模式下操作以便将颗粒吸引至所述第二表面。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，所述平台包括静电卡盘。

15.根据权利要求13所述的设备，其中，所述第一表面部分地覆盖有导电涂层。

16.根据权利要求13所述的设备，其中，所述第二表面至少部分地覆盖有非导电材料。

17.根据权利要求13所述的设备，其中，所述电压供应源适于产生电场，所述电场越过所述衬底延伸到邻近所述第二表面的空间的体积中。

18.根据权利要求13所述的设备，其中，所述衬底由非导电材料制成。

19.根据权利要求13所述的设备，其中，所述第一表面至少部分地涂覆有非导电材料。

20.根据权利要求19所述的设备，其中，所述非导电材料包括Kapton。