[发明专利]接近式曝光装置、接近式曝光方法以及接近式曝光装置用光照射装置在审
| 申请号： | 201980012676.3 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN111699440A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 富樫工;榎本芳幸;原田智纪;川岛洋德 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人： | 邹轶鲛;石红艳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 接近式曝光装置具备：非曝光用光照明单元(100)，其配置于比平面反射镜(68)更靠灯单元(60)侧，使包含第2波长区域的非曝光用光与从灯单元(60)出射的光的光轴同轴地照射，包含第2波长区域的非曝光用光与使工件(W)的感光材料感光的包含第1波长区域的曝光用光不同；以及对准摄像机(110)，其能够使用非曝光用光，同时对投影到工件W的掩模(M)侧的对准标记(101)的投影图像(102)和工件(W)侧的对准标记(103)进行拍摄。由此，能够在不进行试曝光的情况下实现高精度的对准调整，并且能够大幅提升曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 接近 曝光 装置 方法 以及 用光 照射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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