[发明专利]接近式曝光装置、接近式曝光方法以及接近式曝光装置用光照射装置

说明书

接近式曝光装置具备：非曝光用光照明单元(100)，其配置于比平面反射镜(68)更靠灯单元(60)侧，使包含第2波长区域的非曝光用光与从灯单元(60)出射的光的光轴同轴地照射，包含第2波长区域的非曝光用光与使工件(W)的感光材料感光的包含第1波长区域的曝光用光不同；以及对准摄像机(110)，其能够使用非曝光用光，同时对投影到工件W的掩模(M)侧的对准标记(101)的投影图像(102)和工件(W)侧的对准标记(103)进行拍摄。由此，能够在不进行试曝光的情况下实现高精度的对准调整，并且能够大幅提升曝光精度。

技术领域

本发明涉及接近式曝光装置、接近式曝光方法以及接近式曝光装置用光照射装置。

背景技术

在接近式曝光装置中，以几十μm～几百μm的间隙对涂敷有感光材料的被曝光基板接近配置形成有曝光图案的掩模，经由掩模照射来自光照明装置的曝光用光，将曝光图案转印到被曝光基板。另外，在应用于接近式曝光装置的光照明装置中，为了提高照射到掩模的光的照度的均匀性，使用积分器。

在现有的接近式曝光装置中，存在如下方案：在照明装置设置对反射镜的曲率进行校正的曲率校正机构，通过使反射镜弯曲而使反射镜的偏角变化，来校正曝光图案的形状，得到高精度的曝光结果(例如，参照专利文献1、2)。

在专利文献1中，使用作为基准的校准掩模，局部地改变光路反射镜的反射面的曲率来校正曝光用照明光的平行度。接着，使用曝光用掩模，在基板上进行图案的印刷，测定转印的图案，局部地改变光路反射镜的曲率来校正掩模的伸缩。

在专利文献2中，已知一种接近式曝光装置，具有准直镜和对由该准直镜反射的图案曝光用的光的照射角度进行变更的照射角度变更机构，基于掩模的对准标记与基板的对准标记之间的偏移量以及掩模与基板的间隙，来使照射角度变更机构工作而使准直镜变形。

另外，在专利文献3中，已知一种掩模与工件的自动位置对齐方法以及装置，利用第1光照射部的光对掩模的对准标记的投影图像进行显像，进行图像处理并检测/存储其相对位置，利用第2光照射部的光对工件的对准标记进行显像、图像处理并检测/存储相对位置，并以两对准标记重叠的方式使工件和/或掩模移动来精度良好地进行掩模与工件的位置对齐。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-201711号公报

专利文献2：日本专利第5311341号公报

专利文献3：日本特开平8-234452号公报

发明内容

发明欲解决的技术问题

然而，根据专利文献1，存在另外需要校准掩模，并且只能在进行了一次曝光(试曝光)后得到最终的曝光位置的课题。另外，根据专利文献2，没有具体记载对准调整时的照明装置。进一步，根据专利文献3，通过工件和/或掩模的移动来进行掩模与工件的位置对齐，未考虑对掩模、工件的局部的变形进行校正。

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种能够在不进行试曝光的情况下实现高精度的对准调整并且能够大幅提高曝光精度的接近式曝光装置、接近式曝光方法以及接近式曝光装置用光照射装置。

用于解决问题的技术手段

本发明的上述目的通过下述结构而得以实现。

(1)一种接近式曝光装置，具备：

光源；

积分器，所述积分器使来自该光源的光均匀地出射；以及

反射镜，所述反射镜具备能够将反射面的曲率改变的镜弯曲机构，并反射从所述积分器出射的所述光，