[发明专利]接近式曝光装置、接近式曝光方法以及接近式曝光装置用光照射装置

权利要求书

1.一种接近式曝光装置，具备：

光源；

积分器，所述积分器使来自该光源的光均匀地出射；以及

反射镜，所述反射镜具备能够将反射面的曲率改变的镜弯曲机构，并反射从所述积分器出射的所述光，

将形成有曝光图案的掩模与工件隔着间隙接近配置，用于使从所述反射镜出射的光经由所述掩模照射到所述工件上从而将所述曝光图案曝光转印到所述工件，所述接近式曝光装置的特征在于，

还具备：

非曝光用光照明单元，所述非曝光用光照明单元被配置于比所述反射镜更靠所述光源一侧，使包含第2波长区域的非曝光用光与来自所述光源的光同轴地照射，所述非曝光用光与使所述工件的感光材料感光的包含第1波长区域的曝光用光不同；以及

对准摄像机，所述对准摄像机能够使用所述非曝光用光来同时对投影到所述工件上的所述掩模一侧的对准标记的投影图像和所述工件一侧的对准标记进行拍摄。

2.如权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述非曝光用光照明单元具备截止滤光器，所述截止滤光器进退自如地被配置在来自所述光源的光的光路上，通过将来自所述光源的光的所述第1波长区域遮断，从而使已通过的来自所述光源的光成为包含所述第2波长区域的所述非曝光用光。

3.如权利要求2所述的接近式曝光装置，其特征在于，

还具备其他截止滤光器，所述其他截止滤光器进退自如地被配置在来自所述光源的光的所述光路上，通过将所述第2波长区域遮断，从而使已通过的来自所述光源的光成为包含所述第1波长区域的所述曝光用光。

4.如权利要求2所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述截止滤光器构成快门，通过从来自所述光源的光的所述光路上退避，从而使来自所述光源的光的包含所述第1波长区域的所述曝光用光经由所述掩模照射到所述工件上，通过进入所述光路，从而遮断该曝光用光。

5.如权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述非曝光用光照明单元具备非曝光用光源，所述非曝光用光源与所述光源分体设置，并照射包含所述第2波长区域的所述非曝光用光。

6.如权利要求5所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述非曝光用光源被配置于与所述光源共轭的位置。

7.如权利要求1～6中任一项所述的接近式曝光装置，其特征在于，

还具备半反射镜，所述半反射镜在所述反射镜与所述掩模之间，被配置在所述非曝光用光的光路上，

所述对准摄像机经由所述半反射镜而同时对所述掩模一侧的对准标记的投影图像和所述工件一侧的对准标记进行拍摄。

8.如权利要求1～7中任一项所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述工件具备与所述掩模的曝光图案对应的矩形状的曝光区域，

所述对准摄像机在所述曝光区域或该曝光区域周围的四角以及连结该四角的各边中的至少一点处，同时对投影到所述工件上的所述掩模一侧的对准标记的投影图像和所述工件一侧的对准标记进行拍摄。

9.如权利要求1～8中任一项所述的接近式曝光装置，其特征在于，具备：

移动机构，所述移动机构使所述工件与所述掩模相对移动；以及

控制部，所述控制部利用所述镜弯曲机构来校正所述反射镜的曲率，并且利用所述移动机构来使所述掩模与所述工件相对移动，以使拍摄到的所述掩模一侧的对准标记的投影图像与所述工件一侧的对准标记的各中心一致。