[发明专利]用于光学器件增强的润湿层有效
| 申请号： | 201980012469.8 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN111699430B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·J·阿姆斯特朗;傅晋欣;威尔逊·班茨 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在此所述的实施方式涉及光学器件制作的方法及材料。在一个实施方式中，提供一种制作光学器件的方法。方法包括在基板上沉积介电膜，在介电膜上沉积润湿层，及在润湿层上沉积含金属膜。在另一实施方式中，提供一种光学器件。器件包括基板，沉积在基板上且接触基板的介电膜，沉积在介电膜上且接触介电膜的润湿层，和沉积在润湿层上且接触润湿层的含金属膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 器件 增强 润湿 | ||
【主权项】：
暂无信息
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