[发明专利]使用设计补偿扫描电子显微镜束的失真引起的计量误差有效
申请号: | 201980007200.0 | 申请日: | 2019-01-03 |
公开(公告)号: | CN111542916B | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | H·S·帕特汉吉 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明揭示用于量化且校正用于计量操作的图像中的不均匀性的方法及系统。可使用晶片的计量区域图像及设计剪辑。所述计量区域图像可为扫描电子显微镜图像。所述设计剪辑可为所述晶片的所述设计剪辑或合成设计剪辑。可量化且校正包含电子束失真的工具失真。可将所述设计剪辑应用到所述计量区域图像以获得合成图像,使得一或多个工艺改变变化被抑制且一或多个工具失真被增强。 | ||
搜索关键词: | 使用 设计 补偿 扫描 电子显微镜 失真 引起 计量 误差 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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