[实用新型]双面涂敷装置及涂膜形成系统有效
| 申请号： | 201922232714.6 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN211865543U | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 冈田广司 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | B05B13/02 | 分类号： | B05B13/02;B05B16/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 金辉;崔炳哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种能够防止涂敷液的液体垂落的双面涂敷装置及涂膜形成系统。沿铅垂方向向上搬送基材。隔着基材沿水平方向相对配置有一对涂敷喷嘴。送至涂敷喷嘴的涂敷液从狭缝状的喷出口向移动的基材的表面背面喷出。涂敷喷嘴的上侧唇部与基材之间的上部间隔(D3)比喷出口的狭缝间隔(D1)狭小。另外，涂敷喷嘴的下侧唇部与基材之间的下部间隔(D2)比上部间隔(D3)狭小。在下侧唇部与基材之间形成的空间的压力损失大于在上侧唇部与基材之间形成的空间的压力损失，能够准确地防止来自下侧唇部与基材之间的涂敷液的液体垂落。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 装置 形成 系统 | ||
【主权项】：
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