[实用新型]双面涂敷装置及涂膜形成系统有效
| 申请号: | 201922232714.6 | 申请日: | 2019-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN211865543U | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
| 发明(设计)人: | 冈田广司 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02;B05B16/20 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金辉;崔炳哲 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双面 装置 形成 系统 | ||
1.一种双面涂敷装置,对长带状的基材的两面同时涂敷涂敷液,其特征在于,
具有:
基材搬送部,从第一辊送出的所述基材经第二辊卷取,从而沿着长度方向连续搬送所述基材,并且,在至少部分区间沿铅垂方向向上搬送所述基材;以及
一对喷嘴,在所述部分区间,隔着所述基材沿水平方向相对配置,并具有沿水平方向延伸的狭缝状的喷出口,
所述一对喷嘴的每一个具有均被设置为与所述基材的主面相平行的上侧唇部和下侧唇部,所述上侧唇部规定所述喷出口的上端,所述下侧唇部规定所述喷出口的下端,
在所述下侧唇部与所述基材之间形成的空间的压力损失大于在所述上侧唇部与所述基材之间形成的空间的压力损失。
2.如权利要求1所述的双面涂敷装置,其特征在于,
所述下侧唇部与所述基材之间的间隔比所述上侧唇部与所述基材之间的间隔小。
3.如权利要求2所述的双面涂敷装置,其特征在于,
所述上侧唇部与所述基材之间的间隔比所述喷出口的狭缝间隔小。
4.如权利要求3所述的双面涂敷装置,其特征在于,
所述上侧唇部与所述基材之间的间隔与向所述基材涂敷的涂敷液的湿膜厚相等。
5.一种涂膜形成系统,其特征在于,
具有:
权利要求1至4中任一项所述的双面涂敷装置;
使由所述双面涂敷装置形成在基材的两面上的涂敷液的涂膜干燥的干燥部。
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