[实用新型]一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置有效
| 申请号： | 201922070873.0 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN211227304U | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 刘辉;刘敏;刘军;刘功豪;叶永洋;邹维;吴临红 | 申请（专利权）人： | 江西水晶光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 鹰潭市智埠专利代理事务所(普通合伙) 36131 | 代理人： | 周少华 |
| 地址： | 335000 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种具有辅助晶振的蒸发镀膜装置，包括真空腔室和设置在该真空腔室中的坩埚、坩埚遮挡盘、工件架、离子源、离子遮挡盘、主晶振、光学监控、辅晶振，所述坩埚内放置有蒸发材料，所述坩埚和离子源均置于真空腔室底部，所述坩埚遮挡盘和离子遮挡盘分别可转动式固定在坩埚和离子源的上方，所述用于监控镀膜参数的主晶振和光学监控均设置在真空腔室的顶部，所述用于监控材料蒸发参数的辅晶振设置在真空腔室的侧壁上，所述工件架位于主晶振下方。本实用新型在蒸发源侧壁上方增加辅晶振，在镀膜过程中对光斑位置进行监控，通过主晶振和辅晶振之间参数的比例，判断光斑位置是否变化，以及时对其进行调整，降低产品的不良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 辅助 蒸发 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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