[实用新型]掩模版和蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 201921930248.2 申请日: 2019-11-11
公开(公告)号: CN210683920U 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 张粲;王灿;张盎然;陈小川 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 曲鹏;解婷婷
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了一种掩模版和蒸镀装置。掩模版包括半导体材料的基底以及在所述基底上形成的掩模图形,所述掩模图形包括多个开口,在垂直于掩模版的平面内,所述开口的截面形状包括梯形。本实用新型通过将掩模图形中开口的截面形状设置成梯形,消除了蒸镀时开口侧壁对蒸镀材料的遮挡,使得蒸镀材料能够均匀地透过开口贴附在显示基板的像素开口内,提高了蒸镀均匀性,提高了蒸镀质量。
搜索关键词: 模版 装置
【主权项】:
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