[实用新型]掩模版和蒸镀装置有效
申请号: | 201921930248.2 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN210683920U | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 张粲;王灿;张盎然;陈小川 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 曲鹏;解婷婷 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种掩模版和蒸镀装置。掩模版包括半导体材料的基底以及在所述基底上形成的掩模图形,所述掩模图形包括多个开口,在垂直于掩模版的平面内,所述开口的截面形状包括梯形。本实用新型通过将掩模图形中开口的截面形状设置成梯形,消除了蒸镀时开口侧壁对蒸镀材料的遮挡,使得蒸镀材料能够均匀地透过开口贴附在显示基板的像素开口内,提高了蒸镀均匀性,提高了蒸镀质量。 | ||
搜索关键词: | 模版 装置 | ||
【主权项】:
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