[实用新型]一种坩埚保护支架有效
| 申请号： | 201921860794.3 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN210907202U | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 何军舫 | 申请（专利权）人： | 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇（天津）半导体材料有限公司;博宇（朝阳）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 郑久兴 |
| 地址： | 101101*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种坩埚保护支架，包括：底板，设置有至少两个条形插孔，条形插孔的轴线与底板的板面垂直；支撑架，支撑架设有与条形插孔相匹配的插接部，支撑架与底板通过插接部插接，支撑架设有用于承托坩埚的承托部。在坩埚清洗过程中，将坩埚放置在该保护支架内，使得坩埚比较脆弱的上沿处于悬空状态，避免了清洗槽对坩埚上沿造成损伤，降低了清洗过程中坩埚的损坏率，延长了坩埚使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 保护 支架 | ||
【主权项】：
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