[实用新型]一种坩埚保护支架有效
申请号: | 201921860794.3 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN210907202U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 何军舫 | 申请(专利权)人: | 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B13/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 郑久兴 |
地址: | 101101*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 坩埚 保护 支架 | ||
本实用新型公开了一种坩埚保护支架,包括:底板,设置有至少两个条形插孔,条形插孔的轴线与底板的板面垂直;支撑架,支撑架设有与条形插孔相匹配的插接部,支撑架与底板通过插接部插接,支撑架设有用于承托坩埚的承托部。在坩埚清洗过程中,将坩埚放置在该保护支架内,使得坩埚比较脆弱的上沿处于悬空状态,避免了清洗槽对坩埚上沿造成损伤,降低了清洗过程中坩埚的损坏率,延长了坩埚使用寿命。
技术领域
本实用新型涉及坩埚支架领域,特别涉及在坩埚清洗过程中的一种坩埚保护支架。
背景技术
现有技术中,坩埚的使用非常普遍,在坩埚使用前后,往往需要对其进行清洗,去除坩埚表面的颗粒物以及其他杂质以便坩埚的后续使用,目前,常见的坩埚清洗装置是超声波清洗槽,在清洗时,需要将坩埚放置在槽内进行清洗,然而,由于坩埚上沿、籽晶腔等位置是坩埚比较脆弱的部位,如果直接将其放置在超声波清洗槽中,容易使坩埚上沿等脆弱部位由于磕碰受到损伤,降低坩埚使用寿命甚至直接损坏坩埚。
实用新型内容
本实用新型实施例的目的是提供一种坩埚保护支架,以解决坩埚清洗过程中容易使坩埚脆弱部位损伤的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型实施例提供了一种坩埚保护支架,包括:底板,设置有至少两个条形插孔,条形插孔的轴线与底板的板面垂直;支撑架,支撑架设有与条形插孔相匹配的插接部,支撑架与底板通过插接部插接,支撑架设有用于承托坩埚的承托部。
进一步地,支撑架包括:两个侧板和至少两个支撑板;两个侧板设有插接部,两个侧板与底板插接;至少两个支撑板设于两个侧板之间,至少两个支撑板的两端分别与两个侧板插接;至少两个支撑板板缘内凹形成承托部。
进一步地,侧板设置有多个与支撑板插接的调节槽;调节槽延伸至侧板至少一侧的板缘。
进一步地,坩埚保护支架还包括:沿调节槽延伸方向排列设置有多个与支撑板插接的限位孔;限位孔与调节槽相通。
进一步地,调节槽垂直于底板;限位孔呈L形,L形的限位孔一端与调节槽相通,另一端向底板方向延伸。
进一步地,调节槽平行于底板;限位孔向底板方向延伸。
进一步地,支撑板两端设有与侧板插接的插槽。
进一步地,支撑架包括:至少两个承接板;至少两个承接板的板缘内凹形成承托部;至少两个承接板与底板通过条形插孔插接。
进一步地,至少两个条形插孔平行设置;至少两个承接板相互平行。
进一步地,至少两个条形插孔两两垂直设置;至少两个承接板相互交叉连接。
本实用新型实施例的上述技术方案具有如下有益的技术效果:
在坩埚清洗过程中,将坩埚放置在坩埚保护支架内,使得坩埚比较脆弱的上沿部位处于悬空状态,避免了清洗槽对坩埚上沿造成损伤,降低了清洗过程中坩埚的损坏率,延长了坩埚使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型实施例1提供的坩埚保护支架的示意图;
图2是本实用新型实施例2提供的坩埚保护支架的示意图;
图3是本实用新型实施例2提供的侧板的示意图;
图4是本实用新型实施例2提供支撑板的装配图;
图5是本实用新型实施例3提供的坩埚保护支架的示意图;
图6是本实用新型实施例4提供的坩埚保护支架的示意图;
图7是本实用新型实施例5提供的坩埚保护支架的示意图。
附图标记:
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