[实用新型]一种平板式PECVD设备腔盖开合装置有效
| 申请号： | 201921424090.1 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN210529056U | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 彭宜昌;陈特超;唐电;张威 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种平板式PECVD设备腔盖开合装置，包括设于腔体底部的伸缩驱动件、设于腔体侧壁的旋转支撑座以及设于腔盖上的拉臂，所述旋转支撑座上设有弯折的旋转臂，所述旋转臂下端与所述伸缩驱动件铰接，上端与一连接臂下端铰接，所述连接臂上端与所述拉臂铰接且铰接处设有腰型孔，所述腰型孔内设有缓冲垫。本实用新型具有结构简单、空间利用率高、有利于减轻大面积腔盖变形造成的影响等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平板 pecvd 设备 腔盖开合 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所，未经中国电子科技集团公司第四十八研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201921424090.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种羧甲基赖氨酸提取用原料预处理装置
- 下一篇：一种自来水厂排泥水处理系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
