[实用新型]硅片反射率测量装置有效
申请号: | 201921394002.8 | 申请日: | 2019-08-26 |
公开(公告)号: | CN211179528U | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 陈全胜;唐旱波;刘尧平;王燕;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 松山湖材料实验室 |
主分类号: | G01N21/55 | 分类号: | G01N21/55 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 刘晓敏 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种硅片反射率测量装置,其包括样品台、光源模块、光学镜头模块、数据采集模块和数据分析运算模块,样品台用于放置待测硅片样品;光源模块用于为放置在样品台上的硅片样品提供均匀的具有特定光谱的光源,光学镜头模块用于将经过硅片样品反射的光进行汇聚并过滤掉非反射光;数据采集模块用于将经过光学镜头模块汇聚的光信号转化为电信号,并输出结果。数据分析运算模块用于将数据采集模块的输出结果与标准样品的测试结果进行比对得出硅片样品的反射率。整体结构设计合理,省去传统分光装置,有效简化整体结构,硬件配置简单,易于实现,工作可靠性高,能精确、快速测量出硅片反射率,适用范围广,成本较低,利于广泛推广应用。 | ||
搜索关键词: | 硅片 反射率 测量 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松山湖材料实验室,未经松山湖材料实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921394002.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带有挡板的加油插件
- 下一篇:一种无人机用起落支脚机构