[实用新型]一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置有效
申请号: | 201921393504.9 | 申请日: | 2019-08-26 |
公开(公告)号: | CN210651227U | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 刘春良 | 申请(专利权)人: | 江西格仕祺陶瓷有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 南昌市赣昌知识产权代理事务所(普通合伙) 36140 | 代理人: | 刘鸿运 |
地址: | 330800 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置,包括机体、伺服电机和固定架,所述机体的下端内部开设有滑槽,且机体的左侧安装有伺服电机,所述伺服电机的右侧设置有传动杆,且传动杆的右端连接有主动锥齿轮,所述主动锥齿轮的前侧安装有传动锥齿轮,所述从动杆的后端安装有圆盘,所述毛刷的上方安装有伸缩杆,且伸缩杆的上端设置在套筒的内部,所述压杆的左侧连接有复位弹簧,所述套筒连接在齿块的下端,且齿块的内部设置有不完全齿轮。该便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置,能够对负离子瓷砖表面进行均匀涂抹,提高负离子瓷砖的生产效率,能够对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料,提高施釉装置的适用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 便于 均匀 涂抹 负离子 瓷砖 生产 用施釉 装置 | ||
【主权项】:
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