[实用新型]一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置

说明书

本实用新型公开了一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，包括机体、伺服电机和固定架，所述机体的下端内部开设有滑槽，且机体的左侧安装有伺服电机，所述伺服电机的右侧设置有传动杆，且传动杆的右端连接有主动锥齿轮，所述主动锥齿轮的前侧安装有传动锥齿轮，所述从动杆的后端安装有圆盘，所述毛刷的上方安装有伸缩杆，且伸缩杆的上端设置在套筒的内部，所述压杆的左侧连接有复位弹簧，所述套筒连接在齿块的下端，且齿块的内部设置有不完全齿轮。该便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，能够对负离子瓷砖表面进行均匀涂抹，提高负离子瓷砖的生产效率，能够对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料，提高施釉装置的适用性。

技术领域

本实用新型涉及负离子瓷砖技术领域，具体为一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置。

背景技术

负离子瓷砖是一种带有负离子功能的瓷砖，负离子是空气中带负电荷的气体离子，负离子有镇静、镇痛和降血压等功能，负离子瓷砖在生产时需要用到施釉装置，通过施釉装置对负离子瓷砖表面进行喷涂。

然而现有的施釉装置存在以下问题：

1.现有的施釉装置在进行对负离子瓷砖表面喷涂时，不便于对负离子瓷砖进行均匀涂抹，从而影响负离子瓷砖的生产效率；

2.现有的施釉装置不便于对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料，导致施釉装置的适用性降低。

针对上述问题，在原有的施釉装置基础上进行创新设计。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，以解决上述背景技术中提出便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，不便于对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料，导致施釉装置的适用性降低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，包括机体、伺服电机和固定架，所述机体的下端内部开设有滑槽，且机体的左侧安装有伺服电机，所述伺服电机的右侧设置有传动杆，且传动杆的右端连接有主动锥齿轮，所述主动锥齿轮的前侧安装有传动锥齿轮，且传动锥齿轮上连接有从动杆，所述从动杆的后端安装有圆盘，且圆盘上设置有固定柱，所述固定柱的外侧设置有移动块，且移动块的右侧固定有连杆，所述连杆的右端安装在固定架上，且固定架的上方设置有毛刷，所述毛刷的上方安装有伸缩杆，且伸缩杆的上端设置在套筒的内部，并且套筒的右侧开设有孔洞，所述伸缩杆的右端连接有固定块，且固定块的右侧连接有压杆，所述压杆的左侧连接有复位弹簧，且复位弹簧的左侧设置有活动杆，并且活动杆的上端右侧连接有限位块，所述套筒连接在齿块的下端，且齿块的内部设置有不完全齿轮，并且不完全齿轮安装在联动杆上，所述齿块的边侧固定有滑动杆，且滑动杆的外端设置在固定套管的内部。

优选的，所述圆盘与固定柱为焊接一体化结构，且固定柱设置在移动块的内部，并且固定柱的外壁与移动块的内壁相互贴合。

优选的，所述固定架与移动块之间通过连杆相互连接，且固定架的下端与滑槽的内壁相互贴合，并且固定架与滑槽之间为可滑动结构。

优选的，所述伸缩杆的上端外壁与套筒的内壁相互贴合，且套筒与伸缩杆之间构成可滑动结构。

优选的，所述压杆的左端外壁与固定块的内壁相互贴合，且压杆与限位块之间通过活动杆相互连接，并且限位块与孔洞的内壁相互贴合，而且孔洞在套筒上均匀分布。

优选的，所述齿块与不完全齿轮为啮合连接，且齿块的左右边侧焊接有滑动杆，并且滑动杆的外端与固定套管的内壁相互贴合。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，能够对负离子瓷砖表面进行均匀涂抹，提高负离子瓷砖的生产效率，能够对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料，提高施釉装置的适用性；