[实用新型]一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置

权利要求书

1.一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，包括机体（1）、伺服电机（3）和固定架（12），其特征在于：所述机体（1）的下端内部开设有滑槽（2），且机体（1）的左侧安装有伺服电机（3），所述伺服电机（3）的右侧设置有传动杆（4），且传动杆（4）的右端连接有主动锥齿轮（5），所述主动锥齿轮（5）的前侧安装有传动锥齿轮（6），且传动锥齿轮（6）上连接有从动杆（7），所述从动杆（7）的后端安装有圆盘（8），且圆盘（8）上设置有固定柱（9），所述固定柱（9）的外侧设置有移动块（10），且移动块（10）的右侧固定有连杆（11），所述连杆（11）的右端安装在固定架（12）上，且固定架（12）的上方设置有毛刷（13），所述毛刷（13）的上方安装有伸缩杆（14），且伸缩杆（14）的上端设置在套筒（15）的内部，并且套筒（15）的右侧开设有孔洞（16），所述伸缩杆（14）的右端连接有固定块（17），且固定块（17）的右侧连接有压杆（18），所述压杆（18）的左侧连接有复位弹簧（19），且复位弹簧（19）的左侧设置有活动杆（20），并且活动杆（20）的上端右侧连接有限位块（21），所述套筒（15）连接在齿块（22）的下端，且齿块（22）的内部设置有不完全齿轮（23），并且不完全齿轮（23）安装在联动杆（24）上，所述齿块（22）的边侧固定有滑动杆（25），且滑动杆（25）的外端设置在固定套管（26）的内部。

2.根据权利要求1所述的一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，其特征在于：所述圆盘（8）与固定柱（9）为焊接一体化结构，且固定柱（9）设置在移动块（10）的内部，并且固定柱（9）的外壁与移动块（10）的内壁相互贴合。

3.根据权利要求1所述的一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，其特征在于：所述固定架（12）与移动块（10）之间通过连杆（11）相互连接，且固定架（12）的下端与滑槽（2）的内壁相互贴合，并且固定架（12）与滑槽（2）之间为可滑动结构。

4.根据权利要求1所述的一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，其特征在于：所述伸缩杆（14）的上端外壁与套筒（15）的内壁相互贴合，且套筒（15）与伸缩杆（14）之间构成可滑动结构。

5.根据权利要求1所述的一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，其特征在于：所述压杆（18）的左端外壁与固定块（17）的内壁相互贴合，且压杆（18）与限位块（21）之间通过活动杆（20）相互连接，并且限位块（21）与孔洞（16）的内壁相互贴合，而且孔洞（16）在套筒（15）上均匀分布。

6.根据权利要求1所述的一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，其特征在于：所述齿块（22）与不完全齿轮（23）为啮合连接，且齿块（22）的左右边侧焊接有滑动杆（25），并且滑动杆（25）的外端与固定套管（26）的内壁相互贴合。