[实用新型]真空阀门及气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201921337273.X 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN210978536U 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 钱涛;钱政羽;吴其涛 申请(专利权)人: 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司
主分类号: F16K1/00 分类号: F16K1/00;F16K1/36;F16K27/02;F16K49/00;F16K51/02;C23C14/56
代理公司: 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 代理人: 陆明耀;顾祥安
地址: 215122 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型揭示了真空阀门及气相沉积设备,其中所述真空阀门包括阀体,所述阀体的至少一侧板上形成有阀口,所述阀体的内腔中设置有阀芯,所述阀芯连接位于所述阀体外部并可驱动其上的第一密封圈与阀口正对的第一气缸,所述第一密封圈连接驱动其朝向或背向所述阀口移动的且位于密封室中的第二气缸。本方案设计精巧,通过使第一气缸位于阀体外及使第二气缸位于密封室内,从而可以有效的避免真空环境对气缸的要求,同时可以有效的避免气缸漏气、油污等可能对真空腔内环境的污染,有利于保证有效的沉积条件。
搜索关键词: 真空 阀门 沉积 设备
【主权项】:
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