[实用新型]真空阀门及气相沉积设备有效
申请号: | 201921337273.X | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN210978536U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 钱涛;钱政羽;吴其涛 | 申请(专利权)人: | 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司 |
主分类号: | F16K1/00 | 分类号: | F16K1/00;F16K1/36;F16K27/02;F16K49/00;F16K51/02;C23C14/56 |
代理公司: | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 | 代理人: | 陆明耀;顾祥安 |
地址: | 215122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 阀门 沉积 设备 | ||
本实用新型揭示了真空阀门及气相沉积设备,其中所述真空阀门包括阀体,所述阀体的至少一侧板上形成有阀口,所述阀体的内腔中设置有阀芯,所述阀芯连接位于所述阀体外部并可驱动其上的第一密封圈与阀口正对的第一气缸,所述第一密封圈连接驱动其朝向或背向所述阀口移动的且位于密封室中的第二气缸。本方案设计精巧,通过使第一气缸位于阀体外及使第二气缸位于密封室内,从而可以有效的避免真空环境对气缸的要求,同时可以有效的避免气缸漏气、油污等可能对真空腔内环境的污染,有利于保证有效的沉积条件。
技术领域
本实用新型涉及气相沉积领域,尤其是真空阀门及气相沉积设备。
背景技术
气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程,在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。
气相沉积设备是进行沉积的主要场所,在沉积过程中,需在一定的真空环境下进行,因此,各种沉积设备通过阀门进行真空腔的密封或进行不同腔体之间的隔断,但是常规的阀体,如各种插板阀,一般以气缸作为动力源,常规的气缸在真空环境中难以困难,需要专门的在真空中使用的气缸,对气缸的要求提高,增加了成本;同时气缸使用过程中常会出现漏气的情况以及气缸内部存在各种油污等,容易影响真空环境。
实用新型内容
本实用新型的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题,提供一种真空阀门及使用该真空阀门的气相沉积设备。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:
真空阀门,包括阀体,所述阀体的至少一侧板上形成有阀口,所述阀体的内腔中设置有阀芯,所述阀芯连接位于所述阀体外部并可驱动其上的第一密封圈与阀口正对的第一气缸,所述第一密封圈连接驱动其朝向或背向所述阀口移动的且位于密封室中的第二气缸。
优选的,所述的真空阀门中,所述阀体包括具有长方体腔体的槽体及上盖,所述槽体及上盖之间设置有第二密封圈。
优选的,所述的真空阀门中,所述第一气缸的气缸轴位于阀体外且柔性连接传动轴的一端,所述传动轴的另一端固定在阀芯上。
优选的,所述的真空阀门中,传动轴的外周套装有位于阀体内的第一波纹管。
优选的,所述的真空阀门中,所述传动轴的内腔具有流道,其上下两端设置有与所述流道连通的外接头、内接头,所述外接头位于阀体外部,所述内接头位于密封室内部。
优选的,所述的真空阀门中,所述密封圈固定于固定座上,所述固定座位于所述密封室的外部且通过一密封件连接所述第二气缸,所述密封件通过轴密封固定于所述密封室的内部,其伸缩头可伸出到所述密封室的外部并连接第二气缸的气缸轴。
优选的,所述的真空阀门中,所述阀体上设置有管道接口,所述管道接口可相对所述阀体上的密封套滑动,其一端延伸到所述阀体外,另一端延伸到密封室内。
优选的,所述的真空阀门中,所述管道接口的外周套设有第二波纹管,所述第二波纹管的一端固定于密封套的底面,另一端固定于密封室外壁。
优选的,所述的真空阀门中,所述密封圈为硅胶圈。
气相沉积设备,包括上述任一的真空阀门。
本实用新型技术方案的优点主要体现在:
本方案设计精巧,通过使第一气缸位于阀体外及使第二气缸位于密封室内,从而可以有效的避免真空环境对气缸的要求,同时可以有效的避免气缸漏气、油污等可能对真空腔内环境的污染,有利于保证有效的沉积条件。
波纹管的设置有效的避免气缸油污对阀体内的污染,保证了阀体内的洁净度。
管道接头的双层设计提供了双通道,可以同时连接两条管道,应用更加灵活。
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