[实用新型]用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201921135980.0 申请日: 2019-07-18
公开(公告)号: CN210711711U 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 石建华;孟凡英;刘正新 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 宋缨
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备,镀膜设备包括阴极镀膜源及载盘,载盘包括追盘部件及承载台阶;通过阴极镀膜源,在同一真空腔内、无需翻转的情况下进行双面镀膜;通过追盘部件,遮挡多个载盘之间的缝隙,实现阴极镀膜源的隔离式布局,避免阴极镀膜源的相互影响;通过承载台阶承载待镀膜件并对待镀膜件进行遮挡,避免透明导电氧化物薄膜的导通,避免引起SHJ太阳电池的短路;通过加固部件,防止载盘的变形,提高产品质量。本实用新型实现了“无应力”双面同位连续镀膜,减小镀膜设备的占地面积、避免待镀膜件的翻转、提高产品质量、具有低成本、高稳定性、广泛的应用前景和经济价值。
搜索关键词: 用于 制作 透明 导电 氧化物 薄膜 镀膜 设备
【主权项】:
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