[实用新型]辅助阳极装置及具有其的真空磁控溅射设备

摘要

本实用新型公开了一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，所述腔室中设置有杆状的辅助阳极，所述辅助阳极的一端部连接在所述侧板上、另一端部处于所述靶材的下方。腔室中的游离电子朝着玻璃基片移动时，受到辅助阳极的吸引，则转向朝着辅助阳极移动，保证玻璃基片上不会积累电子，避免其发生放电现象，影响镀膜质量，同时辅助阳极不会影响玻璃基片的镀膜。相比于现有技术对传动辊进行绝缘处理，该辅助阳极将电子通往玻璃基片的通道阻隔，根本上地解决了电子积累的问题。