[实用新型]一种用于磁瓦检测的沉浸式光源结构有效
| 申请号： | 201920849482.6 | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN210071695U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 朱培源 | 申请（专利权）人： | 深圳至汉装备科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88;G03B15/05 |
| 代理公司： | 11491 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于磁瓦检测的沉浸式光源结构，包括半球形的弧形壳体，在所述弧形壳体的弧顶处设置有开口，在所述弧形壳体下部开口圆周上设置有将光射向所述弧形壳体内壁上的环形光源模组，所述弧形壳体的底部开有两个相对的凹口。本实用新型能通过环形光源模组以及半球形弧形灯罩将磁瓦完全包含在光照范围内，既不影响磁瓦的流水线输送，又能够全方位均匀地对磁瓦拍摄面进行照明，同时突出磁瓦表面的缺陷位置，使相机在获取更清晰的图像同时，更快更容易地确定当前检测磁瓦的缺陷状态。 | ||
| 搜索关键词： | 弧形壳体 磁瓦 本实用新型 环形光源 半球形 模组 流水线输送 磁瓦表面 磁瓦检测 光源结构 弧形灯罩 缺陷位置 缺陷状态 下部开口 沉浸式 弧形壳 凹口 弧顶 光照 开口 相机 体内 图像 拍摄 检测 清晰 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁瓦检测的沉浸式光源结构，其特征在于，包括半球形的弧形壳体，在所述弧形壳体的弧顶处设置有开口，在所述弧形壳体下部开口圆周上设置有将光射向所述弧形壳体内壁上的环形光源模组，所述弧形壳体的底部开有两个相对的凹口。/n
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