[实用新型]一种用于磁瓦检测的沉浸式光源结构有效
| 申请号： | 201920849482.6 | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN210071695U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 朱培源 | 申请（专利权）人： | 深圳至汉装备科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88;G03B15/05 |
| 代理公司： | 11491 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 弧形壳体 磁瓦 本实用新型 环形光源 半球形 模组 流水线输送 磁瓦表面 磁瓦检测 光源结构 弧形灯罩 缺陷位置 缺陷状态 下部开口 沉浸式 弧形壳 凹口 弧顶 光照 开口 相机 体内 图像 拍摄 检测 清晰 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于磁瓦检测的沉浸式光源结构，其特征在于，包括半球形的弧形壳体，在所述弧形壳体的弧顶处设置有开口，在所述弧形壳体下部开口圆周上设置有将光射向所述弧形壳体内壁上的环形光源模组，所述弧形壳体的底部开有两个相对的凹口。
2.根据权利要求1所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
在所述弧形壳体的内壁上涂有对所述环形光源模组的光进行漫反射的反射涂层。
3.根据权利要求1所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
所述环形光源模组分为两组，并分别位于两个所述凹口之间的所述弧形壳体的内侧壁上。
4.根据权利要求1所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
所述环形光源模组包括弧形的开口槽，均匀安装在所述开口槽内的LED灯珠，以及封闭所述开口槽的透明板，所述弧形壳体的底部设置有水平向外部延伸的固定环，所述开口槽的开口端与所述固定环连接，且安装所述LED灯珠的部位延伸至所述弧形壳体内。
5.根据权利要求4所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
所述固定环上设置有调整所述LED灯珠亮度的电压调节开关。
6.根据权利要求1所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
所述弧形壳体的外侧面上对称安装有支撑把手，所述支撑把手的高度高于所述弧形壳体的顶部。
7.根据权利要求1所述的沉浸式光源结构，其特征在于，
所述凹口的尺寸大于待检测的磁瓦尺寸。
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