[实用新型]一种八字环形腔的结构有效

专利信息
申请号: 201920781781.0 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN209896432U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 元晋鹏;汪丽蓉;刘浩 申请(专利权)人: 山西大学
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/083;H01S3/042
代理公司: 14110 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 任林芳
地址: 030006*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型涉及非线性光物理领域,提出了一种八字环形腔的结构,包括底座,底座上方设置有盖板,形成封闭壳体;底座上固定设置有反射镜架和五维位移台,五维位移台上设置有隔热座,隔热座内设置有凹槽,凹槽内设置有帕尔帖元件,凹槽上方设置有加热底板,加热底板上设置有晶体座,晶体座上设置有长槽,晶体设置在长槽上,并通过Z型的加热顶板固定,晶体座上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔;加热顶板包括上板,竖板和下板,上板紧靠晶体座的上表面,竖板紧靠晶体座的侧表面,下板紧靠加热底板的上表面。本实用新型方便调节,使用范围广,稳定性及精细度高,可以广泛应用于非线性光学领域。
搜索关键词: 晶体座 加热底板 紧靠 底座 本实用新型 隔热座 上表面 长槽 上板 竖板 五维 下板 加热 非线性光学领域 帕尔帖元件 反射镜架 方便调节 封闭壳体 固定设置 热敏电阻 盖板 侧表面 测温孔 光物理 环形腔 精细度 位移台 应用
【主权项】:
1.一种八字环形腔的结构,其特征在于,包括底座(1),所述底座(1)上方设置有盖板,形成封闭壳体;所述底座上固定设置有反射镜架(10)和五维位移台(11),所述五维位移台(11)上设置有隔热座(9),所述隔热座(9)内设置有凹槽(906),所述凹槽(906)内设置有帕尔帖元件,所述凹槽(906)上方设置有加热底板(8),所述加热底板(8)上设置有晶体座(805),晶体座(805)上设置有长槽(806),晶体设置在长槽(806)上,并通过Z型的加热顶板(7)固定,晶体座(805)上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔(804);所述加热顶板(7)包括上板(703),竖板(704)和下板(705),上板(703)紧靠晶体座(805)的上表面,竖板(704)紧靠晶体座(805)的侧表面,下板紧靠加热底板(8)的上表面。/n
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