[实用新型]一种八字环形腔的结构有效

专利信息
申请号: 201920781781.0 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN209896432U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 元晋鹏;汪丽蓉;刘浩 申请(专利权)人: 山西大学
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/083;H01S3/042
代理公司: 14110 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 任林芳
地址: 030006*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体座 加热底板 紧靠 底座 本实用新型 隔热座 上表面 长槽 上板 竖板 五维 下板 加热 非线性光学领域 帕尔帖元件 反射镜架 方便调节 封闭壳体 固定设置 热敏电阻 盖板 侧表面 测温孔 光物理 环形腔 精细度 位移台 应用
【说明书】:

实用新型涉及非线性光物理领域,提出了一种八字环形腔的结构,包括底座,底座上方设置有盖板,形成封闭壳体;底座上固定设置有反射镜架和五维位移台,五维位移台上设置有隔热座,隔热座内设置有凹槽,凹槽内设置有帕尔帖元件,凹槽上方设置有加热底板,加热底板上设置有晶体座,晶体座上设置有长槽,晶体设置在长槽上,并通过Z型的加热顶板固定,晶体座上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔;加热顶板包括上板,竖板和下板,上板紧靠晶体座的上表面,竖板紧靠晶体座的侧表面,下板紧靠加热底板的上表面。本实用新型方便调节,使用范围广,稳定性及精细度高,可以广泛应用于非线性光学领域。

技术领域

本实用新型涉及非线性光物理领域,具体涉及应用于不同类型的激光非线性转换过程的八字环形腔结构。

背景技术

八字环形谐振腔是一种行波谐振腔,行波谐振腔具有噪声低和频率特性佳的优点,被广泛应用于高精度激光测量学、非线性光学、相干信息处理及量子通信等领域。现有技术中的八字环形腔结构主要存在以下问题:

(1)稳定差,现有技术中往往忽略了外界环境对谐振腔的影响,外界温度的变化,空气中的灰尘等会对激光谐振腔的稳定性造成极大的影响。

(2)底座胶粘法不可逆,通过紫外固化胶对八字环形腔中的底座进行固定是现在常用的一种技术手段,利用胶粘法可以基本保证腔内底座的稳定,但是也存在使得底座永久固定,无法再次进行对激光谐振腔进行优化,同时腔长的不可调节性使其局限于一腔一用。

(3)现有技术中八字环形腔使用温控炉对非线性晶体进行加热往往是一腔一用,加热炉只能对一种特定的晶体进行加热,在科学研究中往往需要对不同材料及规格的非线性晶体进行研究,所以现有温控炉的局限性导致了科研材料的浪费。

实用新型内容

为了解决现有技术中的八字环形腔存在的问题,本实用新型所要解决的技术问题为:提供一种方便调节,使用范围广,稳定性及精细度高的八字环形腔结构。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种八字环形腔的结构,包括底座,所述底座上方设置有盖板,形成封闭壳体;所述底座上固定设置有反射镜架和五维位移台,所述五维位移台上设置有隔热座,所述隔热座内设置有凹槽,所述凹槽内设置有帕尔帖元件,所述凹槽上方设置有加热底板,所述加热底板上设置有晶体座,晶体座上设置有长槽,晶体设置在长槽上,并通过Z型的加热顶板固定,晶体座上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔;所述加热顶板包括上板,竖板和下板,上板紧靠晶体座的上表面,竖板紧靠晶体座的侧表面,下板紧靠加热底板的上表面。

所述盖板包括U型盖板和两个端面盖板,所述端面盖板上设置有长条形的通光孔,所述通光孔上下两侧上设置有滑槽,所述滑槽上设置有多个用于挡光的光挡板,光挡板上设置有用于推动光挡板在滑槽上滑动的凸起部。

所述U型盖板的一侧设置有引线孔,所述U形盖板的侧板两端均设置有用于分别与两个端面盖板连接的通孔,所述端面盖板的侧边上与所述通孔对应的地方设置有螺孔。

所述底座为凸台结构,边缘设置有用于放置盖板的下降台阶;所述底座上设置有用于与实验平台固定连接的沉头圆孔,以及用于固定光学元件的螺纹孔。

所述的一种八字环形腔的结构,还包括镜架底座和压脚,所述镜架底座包括支柱部和底盘,所述反射镜架与支柱部的顶部固定连接,所述支柱部的底部与底板中心固定连接,所述底盘上设置有个凸起圆台;所述压脚底部设置有与所述底盘边缘配合的台阶以及与所述凸起圆台配合的槽口,所述压脚上还设置有用于安装固定螺丝的长槽口。

所述底座为殷钢制成,所述隔热座为铝材料制成,所述加热底板,晶体座和加热顶板为红铜材料制成,所述加热底板通过PEEK材料螺丝固定设置在隔热座上,并且所述加热底板的底部与帕尔帖元件的顶部接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西大学,未经山西大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920781781.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top