[实用新型]一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜有效
| 申请号： | 201920549553.0 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN210065624U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 施克炜;陈晓东;杨明 | 申请（专利权）人： | 太湖金张科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/25 | 分类号： | C09J7/25;C09J7/24;C09J7/30;C09J4/02 |
| 代理公司： | 11486 北京博维知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 王艺 |
| 地址： | 246400 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开提供了一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜，包括基材层，基材层的上表面涂布一层防静电层，防静电层的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层A，胶层A的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层B，胶层B的上表面贴合一层离型膜；所述UV半固化胶层A包括上表面、下表面，在上表面和下表面之间分布有小颗粒。UV半固化胶层A和UV半固化胶层B含有光引发剂，胶层A胶质柔软，胶层B具有压敏粘性；在一定光照射条件下，胶层A达到完全固化，胶层B仍为半固化状态。在待加工器件的背面进行机械性、化学性加工时，用于保护其凹凸不平或微结构表面，避免其在加工过程中受到破坏和污染，且加工完成后，保护膜可无残胶地进行剥离。本实用新型保护膜具有结构和生产工艺简单，性能优良等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 胶层 上表面 半固化 光引发剂 本实用新型 防静电层 保护膜 基材层 下表面 凹凸不平结构 半固化状态 表面保护膜 光照射条件 微结构表面 凹凸不平 加工器件 器件加工 完全固化 胶质 化学性 机械性 无残胶 小颗粒 层离 压敏 生产工艺 柔软 背面 加工 剥离 污染 | ||
【主权项】：
1.一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜，其特征在于，包括基材层(101)，基材层的上表面涂布一层防静电层（102），防静电层的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层A（103），胶层A的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层B（104），胶层B的上表面贴合一层离型膜（105）；所述UV半固化胶层A包括上表面、下表面，在上表面和下表面之间分布有小颗粒。/n
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