[实用新型]沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统有效
| 申请号： | 201920539015.3 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN209843735U | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 张德忠;王雪戈 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;C23C18/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统。其中，该沉积槽包括：U型槽以及用于吸附衬底的吸附件，其中，所述U型槽的一端开有进料口，所述U型槽的另一端开有出料口；所述U型槽的槽底设有所述吸附件，所述U型槽的两个槽壁用于与衬底的侧边贴合。通过本申请实施例提供的沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统，能够在保证对柔性衬底的沉积的基础上，有效降低了沉积槽的结构复杂性，进而大幅度降低了沉积槽的生产成本。与此同时保证了在卷对卷生产过程中，柔性衬底运行的过程中紧紧贴附于沉积区域，保持柔性衬底的平坦性和反应温度的均匀控制。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积槽 衬底 化学水浴沉积系统 沉积装置 化学水 卷对卷 吸附件 结构复杂性 卷对卷生产 沉积区域 均匀控制 出料口 进料口 平坦性 槽壁 侧边 沉积 贴附 贴合 吸附 申请 生产成本 保证 | ||
【主权项】：
1.一种沉积槽，其特征在于，包括：U型槽以及用于吸附衬底的吸附件，其中，所述U型槽的一端开有进料口，所述U型槽的另一端开有出料口；所述U型槽的槽底设有所述吸附件，所述U型槽的两个槽壁用于与衬底的侧边贴合。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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