[实用新型]沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统有效
申请号: | 201920539015.3 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN209843735U | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 张德忠;王雪戈 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C18/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积槽 衬底 化学水浴沉积系统 沉积装置 化学水 卷对卷 吸附件 结构复杂性 卷对卷生产 沉积区域 均匀控制 出料口 进料口 平坦性 槽壁 侧边 沉积 贴附 贴合 吸附 申请 生产成本 保证 | ||
本申请实施例提供沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统。其中,该沉积槽包括:U型槽以及用于吸附衬底的吸附件,其中,所述U型槽的一端开有进料口,所述U型槽的另一端开有出料口;所述U型槽的槽底设有所述吸附件,所述U型槽的两个槽壁用于与衬底的侧边贴合。通过本申请实施例提供的沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统,能够在保证对柔性衬底的沉积的基础上,有效降低了沉积槽的结构复杂性,进而大幅度降低了沉积槽的生产成本。与此同时保证了在卷对卷生产过程中,柔性衬底运行的过程中紧紧贴附于沉积区域,保持柔性衬底的平坦性和反应温度的均匀控制。
技术领域
本申请涉及太阳能电池领域,尤其涉及一种沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统。
背景技术
目前通过化学水浴方法沉积缓冲层主要是通过卷对卷沉积系统,即通过提升机构和压紧机构是沉积表面形成凹槽,对反应溶液形成遏制,从而完成缓冲层的膜层沉积。在柔性铜铟镓硒电池电池缓冲层的沉积过程中,缓冲层的活性材料希望均匀可控的沉积在具有吸收层的膜面上,并不希望沉积到柔性衬底的另一面。
上述现有技术虽然可以通过化学水浴法将缓冲层沉积到吸收层膜面上,但是需要仪器配备额外的提升机构,使柔性基底两边提升、翘曲,形成凹槽,将反应溶液遏制到膜层表面,不发发生泄漏。另外,还需要压紧机构,在提升柔性基底边缘的同时,保持柔性沉积衬底整个中心部分相对的平坦。
然而,这两种机构设计复杂,极易造成溶液的泄露,影响缓冲层的沉积质量。
实用新型内容
本申请实施例提供一种沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统,以解决现有技术中存在的技术问题。
本申请实施例提供一种沉积槽,其中,该沉积槽包括:U型槽以及用于吸附衬底的吸附件,其中,所述U型槽的一端开有进料口,所述U型槽的另一端开有出料口;所述U型槽的槽底设有所述吸附件,所述U型槽的两个槽壁用于与衬底的侧边贴合。
在本申请一实施例中,所述吸附件包括开设于所述U型槽的所述槽底的真空吸附孔。
在本申请一实施例中,所述真空吸附孔的数量为多个且沿所述U型槽的延伸方向呈V字形间隔排布。
在本申请一实施例中,所述吸附件包括固定于所述U型槽的所述槽底的磁性吸附件。
在本申请一实施例中,所述磁性吸附件的数量为多个且沿所述U型槽的延伸方向呈V字形间隔排布。
在本申请一实施例中,所述U型槽的两个所述槽壁与所述U型槽的所述槽底之间的夹角为钝角。
本申请实施例还提供一种化学水浴沉积装置,其中,该化学水浴沉积装置包括:本申请实施例提供的沉积槽。
在本申请一实施例中,该化学水浴沉积装置还包括:供液装置,所述供液装置的出液口与所述沉积槽连通。
在本申请一实施例中,该化学水浴沉积装置还包括:加热装置,所述加热装置用于加热所述沉积槽内的液体。
本申请实施例还提供一种卷对卷化学水浴沉积系统,其中该卷对卷化学水浴沉积系统包括:放卷装置、收卷装置、传送装置以及本申请实施例提供的化学水浴沉积装置,其中所述放卷装置通过所述传送装置将待沉积件送入所述化学水浴沉积装置后通过所述收卷装置收卷。
在本申请一实施例中,该卷对卷化学水浴沉积系统还包括设于所述化学水浴沉积装置与所述收卷装置之间的清洗装置和烘干装置。
通过本申请实施例提供的沉积槽、化学水浴沉积装置、卷对卷化学水浴沉积系统,能够在保证对柔性衬底的沉积的基础上,有效降低了沉积槽的结构复杂性,进而大幅度降低了沉积槽的生产成本。与此同时保证了在卷对卷生产过程中,柔性衬底运行的过程中紧紧贴附于沉积区域,保持柔性衬底的平坦性和反应温度的均匀控制。
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