[实用新型]一种偏振态可控的结构光投射模组及3D成像装置有效
| 申请号： | 201920063561.4 | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN209281093U | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 陈驰;蒋建华;何海祥 | 申请（专利权）人： | 深圳市安思疆科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G03B15/02;H01S5/187;H01S5/022 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种偏振态可控的结构光投射模组以及具有该结构光投射模组3D成像装置，其中结构光投射模组包括：激光vcsel阵列光源，所述激光vcsel阵列光源的发光面具有高对比度光栅层，每个发光点的出射光经过高对比度光栅层后，具有一致且可控的偏振态；衍射光学元件，与所述偏振态匹配，用于复制所述出射光并扩散出射。本实用新型利用高对比度光栅层，使激光vcsel阵列光源的出射光具有一致且可控的偏振态，有效的提高整个3D成像装置的光能量利用率、投射pattern的均匀性，且有效降低了投射pattern的零级亮度，因而进一步提高了装置的成像精度。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 结构光 可控的 偏振态 模组 高对比度 出射光 光栅层 光源 本实用新型 激光 光能量利用率 衍射光学元件 偏振态匹配 发光面具 发光点 均匀性 出射 成像 复制 扩散 | ||
【主权项】：
1.一种偏振态可控的结构光投射模组，其特征在于，包括：激光vcsel阵列光源，所述激光vcsel阵列光源的发光面上方具有高对比度光栅层，每个发光点的出射光经过高对比度光栅层后，具有一致且可控的偏振态；衍射光学元件，与所述出射光的偏振态匹配，所述衍射光学元件用于复制所述出射光并扩散出射。
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