[发明专利]CH3结构域改造诱导形成的异源二聚体及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201911410315.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113121697B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 周易 | 申请（专利权）人： | 周易 |
| 主分类号： | C07K16/46 | 分类号： | C07K16/46;C12N15/13;C12N15/85 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 张新蕊 |
| 地址： | 200120 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于抗体工程领域，提供一种了异源二聚体及其制备方法与应用。本发明通过综合考虑界面氨基酸之间的各种相互作用，例如离子作用、疏水相互作用和空间作用等，将“凸‑凹”模型和静电作用相结合，筛选到优选的CH3突变序列，其更倾向于形成异源二聚体，而不形成同源二聚体，因而大大提高了异源二聚体分子的产量。与参考文献CN106883297A和US20150307628A1相比，本发明涉及的“凸‑凹”模型构造方法更加简单、点突变更少，而且在不引入二硫键的情况下能将异源二聚体的纯度最高提高到95％以上。 | ||
| 搜索关键词： | ch3 结构 改造 诱导 形成 二聚体 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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