[发明专利]一种聚合物修饰的石墨烯薄膜及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 201911367177.4 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111029485A | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 刘利会;叶丹青;董锐敏;陈淑芬;黄维 | 申请（专利权）人： | 南京邮电大学 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L51/56;C01B32/184;C01B32/194 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210046 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚合物修饰的石墨烯薄膜及其制备方法与应用，该石墨烯薄膜由基底、位于基底上的石墨烯薄膜和修饰在石墨烯薄膜表面的高介电常数聚合物修饰层组成；该薄膜的制备方法包括以下步骤：(1)制备石墨烯薄膜，并将其转移到基底上；(2)配制高介电常数聚合物溶液；(3)采用溶液法将高介电常数聚合物溶液修饰到石墨烯薄膜表面形成高介电常数聚合物修饰层，得到聚合物修饰的石墨烯薄膜；该石墨烯薄膜作为透明导电电极应用在有机发光器件中。该薄膜能够降低空穴载流子的注入势垒、改善载流子注入；高介电常数聚合物修饰材料化学稳定性好，不易挥发、聚集；应用在发光器件中能够提高其电流密度、发光亮度、电流效率和功率效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 修饰 石墨 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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