[发明专利]反光材料、用于制备反光材料的设备及其工艺在审
| 申请号： | 201911346762.6 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN111086285A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 许明旗;林玉青;李沧海;陈建华;吴俊雄;李真真 | 申请（专利权）人： | 福建夜光达科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B9/04;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/10;B32B37/12;B44F1/02;G02B5/126;B32B5/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362241 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反光材料，包括碎片层、胶水层、底材层，所述碎片层通过所述胶水层连接所述底材层，所述碎片层由微棱镜型反光碎片、格丽特粉组成；本发明的碎片层置于最表层，反光效果好、层次质感强，还可以展示出格丽特式凹凸立体的触感；同时选用微棱镜型反光碎片替代玻璃微珠型反光碎片与单一的格丽特粉混合，既可以减小对切割刀具的磨损，又减少成本的投入，满足现代化生活对穿着服饰、家居装潢、娱乐场所等的时尚性、视觉性等多方面要求，而且充分利用生产工序和制造工艺中留存的边角料，降低成本，实现资源再利用。 | ||
| 搜索关键词： | 反光 材料 用于 制备 设备 及其 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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