[发明专利]反光材料、用于制备反光材料的设备及其工艺在审
申请号: | 201911346762.6 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN111086285A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 许明旗;林玉青;李沧海;陈建华;吴俊雄;李真真 | 申请(专利权)人: | 福建夜光达科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B9/04;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/10;B32B37/12;B44F1/02;G02B5/126;B32B5/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362241 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 反光 材料 用于 制备 设备 及其 工艺 | ||
1.一种反光材料,其特征在于,包括碎片层、胶水层、底材层,所述碎片层通过所述胶水层连接所述底材层,所述碎片层包括微棱镜型反光碎片、格丽特粉,其中所述格丽特粉在所述碎片层中的所占比例为0-30%。
2.根据权利要求1所述的一种反光材料,其特征在于,所述微棱镜型反光碎片选自微棱镜型反光成品膜、微棱镜型反光半成品膜、生产制造工艺中残余的微棱镜型反光成品膜边角料、微棱镜型反光半成品膜边角料中的任意一种或多种。
3.根据权利要求2所述的一种反光材料,其特征在于,所述格丽特粉的粒径为0.004mm-3.0mm;所述微棱镜型反光碎片粒径为0.01mm-5.0mm。
4.根据权利要求1所述的一种反光材料,其特征在于,所述胶水层为溶剂型透明胶水,厚度为0.1mm-1mm,所述底材层选自布基、革基、膜基、纸基中的任意一种。
5.根据权利要求1所述的一种反光材料,其特征在于,所述底材层为膜基时;所述胶水层为不干胶性胶水。
6.一种制备反光材料的设备,其特征在于,包括
放卷涂胶装置,放卷涂胶装置包括涂胶辊和放卷辊;
出料压合装置,所述出料压合装置包括一上部和一下部:
所述上部包括自动升降杆、储料箱,所述自动升降杆安装在所述储料箱的中部位置,通过所述自动升降杆的上下运动,实现上部与下部的压合运动,所述储料箱底部一侧安装有加热辊,底部另一侧安装有出料孔层,所述出料孔层由上板和下板组成;
所述下部包括底座,所述底座与送风回收装置连接;
送风回收装置,所述送风回收装置两端分别设有进材口和出材口,所述进材口与所述出料压合装置连接,所述送风装置内部上方设有一送风箱,内部下方设有一回收箱;
收卷装置,用于回收制备好的反光材料。
7.根据权利要求6所述的一种制备反光材料的设备,其特征在于,还包括一上料槽,所述涂胶辊悬浮在所述上料槽内,所述涂胶辊与所述放卷辊同步运动。
8.根据权利要求7所述的一种制备反光材料的设备,其特征在于,还包括回收槽,所述回收槽安装在所述底座上。
9.根据权利要求8所述的一种制备反光材料的设备,其特征在于,所述送风回收装置内还安装有风干置材杆。
10.一种反光材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(a)取微棱镜型反光碎片、格丽特粉,将微棱镜型反光碎片、格丽特粉混合均匀,得到碎片层;
(b)选取所需底材层,在底材层上均匀涂覆胶水,得到带有胶水的底材层;在带有胶水的底材层上均匀撒上碎片层,对带有碎片层的底材层进行压合,得到未烘干的反光材料;
(c)将未烘干的反光材料进行烘干、回收,即得反光材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建夜光达科技股份有限公司,未经福建夜光达科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911346762.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。