[发明专利]成像装置和成像系统在审
| 申请号： | 201911333059.1 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN111387997A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 大藤将人;川锅润;藤吉健太郎;佐藤翔 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张小稳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了成像装置和成像系统。成像装置包括：像素区域，该像素区域包括多个像素；以及偏置布线，该偏置布线被放置在像素的光入射侧以经由限定像素区域的第二边将来自电源的偏置供应到像素区域中的像素。偏置布线包括放置在像素周围的第一布线部分和第二布线部分。第一布线部分放置在远离第二边的Y方向上，并且第二布线部分放置在与Y方向正交的X方向上。第一布线部分包括不透光构件。每一像素的第一布线部分的电阻小于每一像素的第二布线部分的电阻。由于第二布线部分而引起的光损失小于由于第一布线部分而引起的光入射的光损失。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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