[发明专利]成像装置和成像系统在审

专利信息
申请号: 201911333059.1 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN111387997A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 大藤将人;川锅润;藤吉健太郎;佐藤翔 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张小稳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种成像装置,其特征在于,该成像装置包括:

像素区域,包括以二维矩阵布置的多个像素,每个像素包括光电转换元件和电连接到光电转换元件的电极中的一个电极的开关元件;以及

偏置布线,放置在光电转换元件的光入射侧,以从限定像素区域的一边将来自电源的偏置供应到像素区域中的每个像素,偏置布线在远离所述一边的第一方向上和与第一方向正交的第二方向上放置在像素周围,偏置布线电连接到光电转换元件的另一个电极,

其中,偏置布线包括放置在第一方向上的第一布线部分和放置在第二方向上的第二布线部分,以及

其中,每一像素的第一布线部分的电阻小于每一像素的第二布线部分的电阻,并且由于第二布线部分而引起的入射在光电转换元件上的光损失小于由于第一布线部分而引起的入射在光电转换元件上的光损失。

2.根据权利要求1所述的成像装置,其中,1Rh/Rv≤300,其中,Rv是每一像素的第一布线部分的电阻,并且Rh是每一像素的第二布线部分的电阻。

3.根据权利要求1所述的成像装置,其中,偏置布线的第一布线部分和第二布线部分包括被配置成不透射光的非透射构件,并且非透射构件在第二布线部分中的线宽比在第一布线部分中的线宽小。

4.根据权利要求1所述的成像装置,其中,偏置布线的第一布线部分包括被配置成不透射光的非透射构件,并且偏置布线的第二布线部分包括被配置成透射光的透射构件。

5.根据权利要求4所述的成像装置,

其中,非透射构件是金属层,并且

其中,被配置成透射光的透射构件是透明导电层。

6.根据权利要求1所述的成像装置,还包括:

驱动电路,被配置成驱动像素;以及

读取电路,被配置成从像素读取电信号,

其中,驱动电路和读取电路均连接到限定像素区域的一边。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的成像装置,还包括:

闪烁器层,被配置成将入射放射线转换成光。

8.一种成像系统,其特征在于,该成像系统包括:

根据权利要求1所述的成像装置;以及

信号处理单元,被配置成处理来自成像装置的信号。

9.一种成像装置,其特征在于,该成像装置包括:

像素区域,包括以二维矩阵布置的多个像素,每个像素包括光电转换元件和电连接到光电转换元件的电极中的一个电极的开关元件;以及

偏置布线,放置在光电转换元件的光入射侧,以从限定像素区域的一边将来自电源的偏置供应到像素区域中的每个像素,偏置布线在远离所述一边的第一方向上和与第一方向正交的第二方向上放置在像素周围,偏置布线电连接到光电转换元件的另一个电极,

其中,偏置布线包括放置在第一方向上的第一布线部分和放置在第二方向上的第二布线部分,以及

其中,基于第一布线部分和第二布线部分的像素的开口率是85%或更大,并且在第二方向上的平均串扰的绝对值是0.39%或更小。

10.一种成像系统,其特征在于,该成像系统包括:

根据权利要求9所述的成像装置;以及

信号处理单元,被配置成处理来自成像装置的信号。

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