[发明专利]纳米多孔硅凸透镜组的制备方法有效
| 申请号： | 201911277287.1 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN111020686B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 龙永福 | 申请（专利权）人： | 湖南文理学院 |
| 主分类号： | C25F3/12 | 分类号： | C25F3/12;C25F3/30;C25F7/00 |
| 代理公司： | 常德市源友专利代理事务所(特殊普通合伙) 43208 | 代理人： | 江妹 |
| 地址： | 415000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米多孔硅凸透镜组的制备方法，该方法是将常规双槽腐蚀制备多孔硅薄膜，先采用正、负方波恒流源对硅片左、右表面进行电化学腐蚀形成多孔硅薄膜后，再加大腐蚀电流，对硅片的中间部分进行电抛光，然后，将其浸入氢氧化钠溶液中，并以圆形的两片多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆形多孔硅薄膜，形成由多孔硅材料构成的凸透镜组。通过本发明的方法，能获得纳米多孔硅凸透镜组，能广泛应用于微机电系统，为微机光电系统领域作出了重大的贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 多孔 凸透镜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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