[发明专利]双室真空镀膜机在审
| 申请号： | 201911277135.1 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN112981340A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 孙桂红;祝海生;黄乐;陈立;唐洪波;唐莲;凌云;金诚明 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 | 代理人： | 安曼 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了双室真空镀膜机，包括缓冲室和工艺室，缓冲室和工艺室可连通的设置，工艺室内设置两组基片架固定件和一组压紧件，两组基片架固定件间隔位于工艺室的底部，压紧件位于工艺室的顶部，基片架在工艺室时，位于两组基片架固定件之间，基片架固定件接触并卡紧基片架的底部，压紧件接触并压紧基片架，缓冲室包括第一缓冲室和第二缓冲室，第一缓冲室、第二缓冲室和工艺室依次连通，基片架的进口和出口均设置在第一缓冲室上。本发明工艺室内两个基片架固定件和压紧件固定了基片架，防止其在溅射镀膜过程中发生沿着溅射粒子飞溅方向的晃动，使溅射沉积更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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