[发明专利]双室真空镀膜机

说明书

本发明提供了双室真空镀膜机，包括缓冲室和工艺室，缓冲室和工艺室可连通的设置，工艺室内设置两组基片架固定件和一组压紧件，两组基片架固定件间隔位于工艺室的底部，压紧件位于工艺室的顶部，基片架在工艺室时，位于两组基片架固定件之间，基片架固定件接触并卡紧基片架的底部，压紧件接触并压紧基片架，缓冲室包括第一缓冲室和第二缓冲室，第一缓冲室、第二缓冲室和工艺室依次连通，基片架的进口和出口均设置在第一缓冲室上。本发明工艺室内两个基片架固定件和压紧件固定了基片架，防止其在溅射镀膜过程中发生沿着溅射粒子飞溅方向的晃动，使溅射沉积更均匀。

技术领域

本发明涉及镀膜生产技术领域，具体为双室真空镀膜机。

背景技术

待镀膜的基片一般在镀膜流水线上一边运行一边进行镀膜，或者在镀膜一体机内进行 旋转，以对基片架上沿基片架周向布置一周的基片进行镀膜。不管是通过镀膜流水线完成 镀膜还是通过一体机进行镀膜，待镀膜的基片都是一边运行一边进行镀膜，这种镀膜方式 虽然提高了镀膜流水线或镀膜一体机的利用率，提高了镀膜流水线或镀膜一体机的生产效 率，但对基片架的传送机构提出了较高的高要求，要求传送机构稳定运行基片，且在溅射 镀膜时保持基片的平稳，如果溅射镀膜时靶材不平稳，极易使镀膜不均匀，影响镀膜质量。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供双室真空镀膜机，工艺室内两个 基片架固定件和压紧件的共三个压紧块呈三角形的三个顶点的方式压紧基片架的背部，基 片架的另一侧被上轨道和下轨道顶住，并且两个基片架固定件的两个固定销限制基片架沿 轨道方向的移动，固定了基片架，防止其在溅射镀膜过程中发生沿着溅射粒子飞溅方向的 晃动，使溅射沉积更均匀，基片架从一个口进出，维持了工艺室环境的稳定性和可靠性， 所述镀膜机结构紧凑，可作为基本单元扩充。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

双室真空镀膜机，包括缓冲室和工艺室，缓冲室和工艺室可连通的设置，工艺室内设 置两组基片架固定件和一组压紧件，两组基片架固定件间隔位于工艺室的底部，压紧件位 于工艺室的顶部，基片架在工艺室时，位于两组基片架固定件之间，基片架固定件接触并 卡紧基片架的底部，压紧件接触并压紧基片架，缓冲室包括第一缓冲室和第二缓冲室，第 一缓冲室、第二缓冲室和工艺室依次连通，基片架的进口和出口均设置在第一缓冲室上。

作为上述技术方案的进一步改进为：

压紧件位于两组基片架固定件中间的正上方。

第一缓冲室、第二缓冲室和工艺室均为长方体形腔室，第一缓冲室和第二缓冲室的箱 体上各设置三个分子泵，第一缓冲室或第二缓冲室的顶部的三个分子泵均匀间隔排列。

第一缓冲室和第二缓冲室的顶部的箱体壁上安装三个分子泵。

工艺室顶部的箱体壁上安装两个分子泵和一个靶材，两个分子泵和一个靶材均匀间隔 排列，靶材位于两个分子泵之间。

第一缓冲室、第二缓冲室和工艺室内均有供基片架运行的轨道，轨道包括上轨道和下 轨道，所述上轨道设于对应腔室内的顶壁上，下轨道设于对应腔室内的底面上，基片架的 上端滑设于上轨道内，基片架的底部滑设于下轨道上。

基片架固定件通过多个固定件轴承可转动的安装在腔室的内部，腔室内部固定设有一 安装架，安装架为多层框架形式，基片架固定件垂直穿过安装架，基片架固定件和安装架 的每一层之间设有一固定件轴承。

基片架固定件的顶端设有凸出基片架固定件表面的固定销和压紧块，固定销和压紧块 成一锐角布置，固定销和压紧块水平设置，当基片架固定件相对安装架转动时，固定销和 压紧块在水平面内转动，且可转动至固定销接触基片架沿轨道方向的端部，压紧块接触并 压紧基片架的背部。

压紧件的端部无固定销，只有压紧块，两个基片架固定件和压紧件的共三个压紧块呈 三角形的三个顶点的方式压紧基片架的背部，基片架的另一侧被上轨道和下轨道顶住。