[发明专利]基于两次成像的X射线光栅相衬成像方法及系统、存储介质、设备有效

专利信息
申请号: 201911273773.6 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111089870B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 杜强;李铭;刘兆邦;张寅;杨晓冬 申请(专利权)人: 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
主分类号: G01N23/041 分类号: G01N23/041;G01N23/083;A61B6/00
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 代理人: 张川
地址: 215163 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供基于两次成像的X射线光栅相衬成像方法,包括步骤:构建成像系统、第一次成像、第二次成像以及重建图像。本发明还涉及基于两次成像的X射线光栅相衬成像系统、存储介质以及电子设备。本发明利用光栅在光轴上移动进行两次成像,将两次成像的结果进行差分运算以及相位信息分离,得到分解出来的吸收像、折射像以及散射像以重建被扫描样品的图像;该方法免除了光栅的相位步进流程,大大提高了相衬成像的速度,降低了对机械部件的精度要求。
搜索关键词: 基于 两次 成像 射线 光栅 方法 系统 存储 介质 设备
【主权项】:
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