[发明专利]一种压印模具、纳米压印膜层的制备方法及电子器件在审
| 申请号： | 201911273240.8 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN110908239A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 路彦辉;李多辉;周雪原;郭康;谷新;谭伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 姚楠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及电子设备技术领域，公开了一种压印模具、纳米压印膜层的制备方法及电子器件，该压印模具包括模具本体，模具本体的一侧设有多个腔体结构，模具本体设有多个腔体结构一侧的表面形成压印面，沿平行于压印面的方向，多个腔体结构包括至少两种截面面积互不相同的腔体结构，多个腔体结构中的任意两种截面面积不相同的腔体结构中，截面面积大的作为第一腔体结构，截面面积小的作为第二腔体结构，沿垂直于压印面的方向，第一腔体结构的深度尺寸小于第二腔体结构的深度尺寸。该压印模具中，各腔体结构的体积相差很小，在应用该压印模具压印时，进入压印模具的各腔体结构内的压印胶体积相差较小，压印模具下的残余压印胶厚度均匀性比较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 压印 模具 纳米 制备 方法 电子器件 | ||
【主权项】：
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