[发明专利]一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备在审
申请号: | 201911140007.2 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN110682204A | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 孙强;沈思情;张俊宝;陈猛 | 申请(专利权)人: | 上海超硅半导体有限公司;重庆超硅半导体有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B37/00 |
代理公司: | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201617 上海市松*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及抛光辅助设备技术领域,尤其涉及一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备。本发明提供的卸载装置,包括抛盘、喷淋机构、回收机构、传送机构和卸载机构,喷淋机构包括喷淋槽和多组喷头,回收机构包括回收片盒,传送机构包括传送带,卸载机构包括卸载台和高压水喷头。该卸载装置,通过将抛盘放置在喷淋槽内的传送带上,在传送带能够将抛盘传送至卸载口的过程中,喷头向抛盘上喷射保护液,当传送带将抛盘传送至卸载口处时,卸载台向上运动以将抛盘顶升起来并与传送带分离,并使抛盘与回收片盒的开口相对,高压水喷头将抛盘上的产品喷射入回收片盒内,实现了使抛盘上的产品在卸载过程一直处于湿润状态,便于产品后续的清洗操作。 | ||
搜索关键词: | 抛盘 传送带 回收片盒 卸载装置 喷头 高压水喷头 传送机构 辅助设备 回收机构 喷淋机构 卸载机构 喷淋槽 卸载口 卸载台 喷射 传送 化学机械抛光 开口相对 清洗操作 湿润状态 向上运动 卸载过程 抛光 保护液 顶升 | ||
【主权项】:
1.一种卸载装置,包括抛盘(100),所述抛盘(100)被配置为用于放置产品,其特征在于,所述卸载装置还包括:/n喷淋机构,包括喷淋槽(11)和多组喷头(12),所述喷淋槽(11)上开设有卸载口(111),多组所述喷头(12)沿水平方向排列悬置在所述喷淋槽(11)的上方且能够向所述喷淋槽(11)内喷射保护液;/n回收机构,包括回收片盒(21),所述回收片盒(21)的开口与所述卸载口(111)相对设置;/n传送机构,包括传送带(31),所述传送带(31)部分设置在所述喷淋槽(11)内,所述抛盘(100)设置在所述传送带(31)上,所述传送带(31)能够将所述抛盘(100)传送至所述卸载口(111);/n卸载机构,包括卸载台(41)和高压水喷头(42),所述卸载台(41)能够将所述传送带(31)上的所述抛盘(100)推顶升起并与所述传送带(31)分离,所述高压水喷头(42)能够将所述抛盘(100)上的产品冲射入所述回收片盒(21)内。/n
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