[发明专利]一种单粒子辐照引入的涨落的表征方法及应用有效
| 申请号： | 201911111343.4 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN110929468B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 安霞;任哲玄;李艮松;张兴;黄如 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | G06F30/39 | 分类号： | G06F30/39;G06F30/367 |
| 代理公司： | 北京中睿智恒知识产权代理事务所(普通合伙) 16025 | 代理人： | 侯文峰 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单粒子辐照引入的涨落的表征方法及应用，通过测试提取单粒子辐照前后多个不同尺寸器件的阈值电压分布，获得单粒子辐照引起的阈值电压涨落，进而对工艺涨落模型进行修正，修正辐射环境下工作的电路设计裕度要求。本发明计算方法简单，应用范围广，可以面向不同技术代和不同辐射环境应用需求，修正辐射环境下工作的电路设计裕度要求，提高纳米级集成电路在辐射环境下工作的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 粒子 辐照 引入 涨落 表征 方法 应用 | ||
【主权项】：
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