[发明专利]用于压印光刻的压印物料有效
| 申请号: | 201911093950.2 | 申请日: | 2013-06-19 |
| 公开(公告)号: | CN110713722B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
| 发明(设计)人: | M.舒伊基 | 申请(专利权)人: | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 邵长准;黄念 |
| 地址: | 奥地利圣*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: |
本发明涉及用于压印光刻的压印物料。具体地,本发明涉及能够用于压印光刻的可固化压印物料,其由以下的混合物组成:至少一种可聚合主要组分和至少一种次要组分。此外,本发明涉及所述压印物料用于初步形成压印形式(4、4'、4''、4'''、4 |
||
| 搜索关键词: | 用于 压印 光刻 物料 | ||
【主权项】:
1.具有亲水凸模表面的凸模和具有疏水表面的能够用于压印光刻的可固化压印物料的组合,其中压印物料由以下的混合物组成:/n- 至少一种基于氧化硅的可聚合主要组分,和/n- 至少一种用于设定亲水性和/或疏水性的次要组分,和/n- 引发剂,和/n- 溶剂,/n其特征在于,在所述引发剂活化的情况下,仅所述至少一种主要组分发生聚合反应,其中一种或多种主要组分由以下材料中的至少之一形成:/n- 多面体低聚倍半硅氧烷/n- 聚(有机)硅氧烷/n- 聚二甲基硅氧烷/n- 原硅酸四乙酯/n- 全氟聚醚,/n其中压印物料与压印凸模间的粘着力小于2.5 J/m
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于EV集团E·索尔纳有限责任公司,未经EV集团E·索尔纳有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911093950.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高导热硅橡胶的制备方法
- 下一篇:一种橡胶组合物及制备方法





