[发明专利]一种锗单晶片用去离子水的冷却装置及冷却方法在审
| 申请号： | 201911061666.7 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110631304A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 刘玉玲;王云彪;冯奎;武永超;吕菲;张贺强;杨玉梅;郭建同 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 主分类号： | F25D3/04 | 分类号： | F25D3/04;F25D17/02 |
| 代理公司： | 12105 天津中环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡京生 |
| 地址： | 300220*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种锗单晶片用去离子水的冷却装置及冷却方法，在有保温层的容器中靠近内壁的位置，数根冷却管和数根去离子水管互相交错螺旋筒状盘旋在一起，并数根冷却管和数根去离子水管的出口端和入口端分别穿过容器壁引到容器外，分别与冷却水系统、去离子水系统相连，有保温层的容器内放置液态冷却介质及冰块调节冷却管内恒温水水温；盘旋在冷却管（3）上的去离子水管内的去离子水通过热交换降温达到锗单晶片用去离子水温度，输出。在温度为18‑25℃的去离子水系统基础上加以改造，在用水点附近加上冷却系统，效果是满足了一种锗单晶抛光片的抛光和清洗工序对去离子水的苛刻要求，且不污染去离子水，成本低、简单易行，降低生产成本，提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 去离子水 冷却管 离子 水管 锗单晶片 保温层 盘旋 热交换 液态冷却介质 冷却水系统 互相交错 苛刻要求 冷却系统 冷却装置 螺旋筒状 清洗工序 系统基础 出口端 恒温水 抛光片 容器壁 入口端 用水点 锗单晶 冰块 抛光 产能 内壁 冷却 穿过 输出 污染 改造 | ||
【主权项】：
1.一种锗单晶片用去离子水的冷却装置，包括有保温层的容器（1）、液态冷却介质（2）、冷却管（3）、去离子水管（4）、冰块（5），其特征在于：在有保温层的容器（1）中靠近内壁的位置，数根冷却管（3）和数根去离子水管（4）互相交错螺旋筒状盘旋在一起，并数根冷却管（3）和数根去离子水管（4）的出口端和入口端都穿过容器壁引到容器外，数根冷却管（3）入口端与温度恒定的冷却水系统相连，出口端与冷却水系统回水管相连，去离子水管（4）入口端与去离子水系统相连，出口端与清洗装置相连，有保温层的容器（1）内放置液态冷却介质（2）及冰块（5）。/n
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