[发明专利]一种抗镀干膜加工方法在审
| 申请号： | 201911014045.3 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110753455A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 潘海进;杨海龙;石东 | 申请（专利权）人： | 深南电路股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/24 | 分类号： | H05K3/24 |
| 代理公司： | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 瞿璨 |
| 地址： | 518000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗镀干膜加工方法，该方法包括：依次对待处理板材进行贴抗镀干膜、干膜曝光以及干膜显影处理；对显影后的待处理板材进行紫外光照射；对照射后的待处理板材采用化学沉积的方式进行表面处理。该方法通过在对待处理板材采用化学沉积的方式进行表面处理前增加紫外光照射流程，将抗镀感光干膜图形转移工艺与紫外光照射及对待处理板材采用化学沉积的方式进行表面处理流程搭配在一起，可增强干膜的耐化学、耐高温性能，克服了常规工艺中化学镀后出现干膜浮离的缺点，采用本方法能够避免产品因干膜浮离而报废，提升产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 干膜 紫外光照射 化学沉积 表面处理流程 图形转移工艺 耐高温性能 产品良率 常规工艺 感光干膜 显影处理 化学镀 显影 搭配 照射 报废 曝光 加工 | ||
【主权项】：
1.一种抗镀干膜加工方法，其特征在于，所述抗镀干膜加工方法包括：/n依次对待处理板材进行贴抗镀干膜、干膜曝光以及干膜显影处理；/n对显影后的所述待处理板材进行紫外光照射；/n对照射后的所述待处理板材采用化学沉积的方式进行表面处理。/n
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