[发明专利]离子注入装置及光束驻留装置在审
| 申请号： | 201910981615.X | 申请日： | 2019-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN111180301A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 八木田贵典 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/147 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明抑制光束驻留装置中的粒子的飞散。本发明的光束驻留装置(24)具备：一对驻留电极(25a、25b)，隔着光束线路(A)而对置；及光束阻尼器，在比一对驻留电极(25a、25b)更靠光束线路(A)的下游侧在一对驻留电极(25a、25b)的对置方向上离开光束线路(A)而设置。一对驻留电极(25a、25b)中的至少一个包含在与光束线路(A)所延伸的方向及对置方向这两个方向均正交的规定方向上隔开间隔而配置的多个电极体(73a～73f)。多个电极体(73a～73f)分别从光束线路的上游侧朝向下游侧延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 光束 驻留 | ||
【主权项】：
暂无信息
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