[发明专利]一种双向管式PECVD系统及其制备工艺在审
| 申请号： | 201910948586.7 | 申请日： | 2019-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN110760821A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 朱旭东;史孟杰 | 申请（专利权）人： | 无锡嘉瑞光伏有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/513 |
| 代理公司： | 32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) | 代理人： | 张超 |
| 地址： | 214200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双向进出管式PECVD系统，包括至少一个设备进口和一个设备出口，自设备进口朝向设备出口依次设置放舟部、预热部、PECVD工艺反应炉管、冷却部和取舟部，放舟部将石墨舟外部的石墨舟抓取并收取到放舟部，放舟部将石墨舟放至预热部进行预热，预热完成后石墨舟移动到PECVD工艺反应炉管进行反应，结束后再到冷却部冷却，冷却结束后通过取舟部将石墨舟取出设备。本发明还公开了此种双向进出管式PECVD系统的制备工艺。采用本发明的设计，采用双向进出的模式进行PECVD反应，当进行PECVD反应的同时能够进行预热操作，大大加快了生产工艺的进程。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨舟 工艺反应 设备出口 设备进口 进出管 冷却部 预热部 预热 炉管 冷却 抓取 取出设备 依次设置 预热操作 制备工艺 生产工艺 外部 移动 进程 | ||
【主权项】：
1.一种双向进出管式PECVD系统，其特征在于：包括PECVD设备及与之配合的PECVD用石墨舟，PECVD设备包括至少一个设备进口和一个设备出口，自设备进口朝向设备出口依次设置放舟部、预热部、PECVD工艺反应炉管、冷却部和取舟部。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
