[发明专利]改善PVD设备反应腔体颗粒稳定性的装置在审
| 申请号： | 201910937932.1 | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN110656307A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 顾云;胡彬彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/54 |
| 代理公司： | 31211 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 焦健 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善PVD设备反应腔体颗粒稳定性的装置，所述PVD设备反应腔体内部具有一钟形罩，所述钟形罩为淀积工艺提供一容置空间；所述钟形罩上安装有风扇，以及风扇控制系统；所述风扇控制系统包含控制器及多个温度传感器。通过对PCXT腔体钟形罩增加多温度测控点，以及风扇工作状态的控制系统，针对钟形罩上不同温度点的监控，以及风扇电机自身工作温度的监控进行综合分析，风扇控制系统实时调节风扇的转速，使钟形罩调节到理想温度，从而保证腔体内的环境颗粒达到最佳效果。 | ||
| 搜索关键词： | 钟形罩 风扇控制系统 设备反应 风扇 腔体 风扇工作状态 颗粒稳定性 温度测控点 温度传感器 淀积工艺 风扇电机 控制系统 腔体内部 容置空间 实时调节 控制器 温度点 监控 综合分析 体内 保证 | ||
【主权项】：
1.一种改善PVD设备反应腔体颗粒稳定性的装置，其特征在于：所述PVD设备反应腔体内部具有一钟形罩，所述钟形罩为淀积工艺提供一容置空间；所述钟形罩上安装有风扇，以及风扇控制系统；所述风扇控制系统包含控制器及多个温度传感器。/n
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